特許
J-GLOBAL ID:201303047329963653
感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 中村 和広
, 齋藤 都子
, 三間 俊介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-057915
公開番号(公開出願番号):特開2013-190689
出願日: 2012年03月14日
公開日(公表日): 2013年09月26日
要約:
【課題】硬化膜の伸度に優れ、かつ、スパッタ処理による金属膜及び硬化物のシワの発生が抑制された硬化膜を与える感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いてパターンを形成する硬化レリーフパターンの製造方法、半導体装置並びに表示体装置を提供する。【解決手段】(A)下記一般式(1)で表される構造を有するフェノール樹脂、光酸発生剤(B)、溶剤(C)並びに架橋剤(D)を含有する感光性絶縁樹脂組成物。{式(1)中、aは2又は3の整数であり、bは0〜2の整数であり、2≦(a+b)≦4であり、R1は炭素数1〜20の1価の有機基、ハロゲン原子、ニトロ基及びシアノ基から成る群から選ばれる1価の置換基を表し、Xは炭素数2〜10の2価の鎖状脂肪族基、炭素数3〜20の2価の脂環式基、アルキレンオキシド基、及び芳香族環を有する2価の有機基から成る群から選ばれる2価の有機基を表す。}【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式(1):
IPC (5件):
G03F 7/023
, G03F 7/038
, G03F 7/004
, C08G 8/00
, H01L 21/027
FI (5件):
G03F7/023 511
, G03F7/038 601
, G03F7/004 501
, C08G8/00 Z
, H01L21/30 502R
Fターム (33件):
2H125AC01
, 2H125AC19
, 2H125AE01P
, 2H125AE04P
, 2H125AE05P
, 2H125AE06P
, 2H125AE07P
, 2H125AE08P
, 2H125AE15P
, 2H125AF05P
, 2H125AF17P
, 2H125AF46P
, 2H125AF52P
, 2H125AM10P
, 2H125AM16P
, 2H125AM79P
, 2H125AM80P
, 2H125AN54P
, 2H125BA22P
, 2H125BA24P
, 2H125CA12
, 2H125CB06
, 2H125CC01
, 2H125CC03
, 2H125CC17
, 2H125CC21
, 4J033CA02
, 4J033CA05
, 4J033CA07
, 4J033CA09
, 4J033CA12
, 4J033CA14
, 4J033HB10
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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