特許
J-GLOBAL ID：200903052760943253

ネガ型レジスト組成物

発明者：
阿出川 豊

阿出川 豊 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-159047
公開番号（公開出願番号）：特開2004-004249
出願日： 2002年05月31日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
【課題】半導体、フォトマスク製造等のための、活性放射線(電子線、X線、又はEUV)の照射によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)活性放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(C)酸触媒により炭素-炭素結合を生成する架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物において、該アルカリ可溶性樹脂がデンドリマーであることを特徴とするネガ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ可溶性樹脂、 (B)活性放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、 (C)酸触媒により炭素-炭素結合を生成する架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物において、該アルカリ可溶性樹脂がデンドリマーであることを特徴とするネガ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/038 ,  C08G65/34 ,  H01L21/027
FI (3件)：
G03F7/038 601 ,  C08G65/34 ,  H01L21/30 502R
Fターム (16件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17 ,  4J005AA21 ,  4J005BA00
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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