特許
J-GLOBAL ID：201303047498293128
マグネトロンプラズマ用磁場発生装置、この磁場発生装置を用いたプラズマエッチング装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
森崎 俊明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-525908
特許番号：特許第4817592号
出願日： 2001年08月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】複数の柱状のセグメント磁石をリング状に配置したダイポールリング磁石を具えたマグネトロンプラズマ用磁場発生装置であって、前記ダイポールリング磁石は第1セグメント磁石を有する第1ダイポールリング磁石と第2セグメント磁石を有する第2ダイポールリング磁石とからなり、第1及び第2セグメント磁石の夫々は非磁性体の架台に埋設されて夫々スペーサを具え、第1ダイポールリング磁石は第2ダイポールリング磁石と直径が同じであり、第1ダイポールリング磁石は第2ダイポールリング磁石に重なるように配置され、第1セグメント磁石と第2セグメント磁石はそれらの中心軸の方向で長さが異なることを特徴とするマグネトロンプラズマ用磁場発生装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
H01L 21/302 101 B
, H05H 1/46 M
