特許

J-GLOBAL ID：201303048021560864

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 市川 幸司 ,  坂本 宏 ,  向井 優一
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-143077
公開番号（公開出願番号）：特開2013-041251
出願日： 2012年06月26日
公開日（公表日）： 2013年02月28日
要約：

【課題】優れた露光マージン及びマスクエラーファクターを有し、且つ欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、酸発生剤及び式(II)で表される化合物を含有するレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される構造単位を有する樹脂、 アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、 酸発生剤及び 式(II)で表される化合物を含有するレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C08F 20/10 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  C08F20/10 ,  H01L21/30 502R

Fターム (38件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100BA15P ,  4J100BA20P ,  4J100BB12P ,  4J100BC02P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

• レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-114763   出願人：住友化学株式会社
• 液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-317487   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-187728   出願人：富士フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-307851   出願人：富士写真フイルム株式会社