特許

J-GLOBAL ID：201303050658004315

輪郭面を有する静電チャックを形成する方法

発明者： サム シャモーイリアン ,  アーノルド ヴィー コーロデンコ ,  セミオン エル カッツ ,  セミオン シェルスティンスキー ,  スリンダー ベンディー ,  ジョン クリントン
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (10件)： 中村 稔 ,  大塚 文昭 ,  熊倉 禎男 ,  宍戸 嘉一 ,  竹内 英人 ,  今城 俊夫 ,  小川 信夫 ,  村社 厚夫 ,  西島 孝喜 ,  箱田 篤
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-040298
公開番号（公開出願番号）：特開2000-228441
特許番号：特許第4833390号
出願日： 2000年01月13日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】輪郭面を有する静電チャックを形成する方法であって、 (a)導電体層、第2の誘電体層、及び耐破壊性層を含む積層体を設けるステップと、 (b)電極パターンを形成するために、前記積層体の前記導電体層をエッチングするステップと、 (c)第1の誘電体層をエッチングされた前記導電体層に接着して、フレキシブル回路を形成するステップと、 (d)前記フレキシブル回路の前記第1の誘電体層を少なくとも1つの突出領域を有するペデスタル面に接着するステップと、 を有することを特徴とする方法。

IPC (3件)：

H01L 21/683 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H02N 13/00 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/68 R ,  H01L 21/302 101 B ,  H02N 13/00 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 静電チャックの改良型表面形状構造及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-340479   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 絶縁破壊に抵抗力を有する静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-363048   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド