ロットサイズ減少のためのバッファ付きローダ

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：熊倉禎男 , 弟子丸健 , 井野砂里 , 松下満 , 倉澤伊知郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-106924
公開番号（公開出願番号）：特開2013-157644
出願日： 2013年05月21日
公開日（公表日）： 2013年08月15日
要約：

【課題】ロードポート及び移送モジュールを有するシステムを提供すること。【解決手段】一実施形態では、ロードポートは、第1の開口部及び第2の開口部を備えたプレートと、第1の加工物アクセスポートと、第2の加工物アクセスポートと、少なくとも1つの貯蔵場所とを有する。貯蔵場所は、第2の加工物アクセスポートの下か第1の加工物アクセスポートの上かのいずれかに配置されるのが良い。移送モジュールは、ロードポートに隣接して位置しており、かかる移送モジュールは、加工物容器を第1の加工物アクセスポートと第2の加工物アクセスポートと貯蔵棚又は貯蔵場所のうちのどれかと素材搬送システムとの間で移動させるロードアームを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

加工物容器と共に稼働するシステムであって、ロードポートを有し、前記ロードポートは、第1の開口部及び第2の開口部を備えたプレートを有し、前記第2の開口部は、前記第1の開口部よりも低い高さ位置で前記プレートに設けられ、加工物容器を支持して当該加工物容器内に貯蔵された加工物に前記第1の開口部を介して接近できるようにするための第1の加工物接近場所を有し、加工物容器を支持して当該加工物容器内に貯蔵された加工物に前記第2の開口部を介して接近できるようにするための第2の加工物接近場所を有し、前記第2の加工物接近場所の下に配置された貯蔵棚を有し、前記ロードポートの前記貯蔵棚の下を通る部分を備えたフロア利用型素材搬送システムを有し、容器を前記第1の加工物接近場所と前記第2の加工物接近場所と前記貯蔵棚との間で移動させたり加工物容器を前記フロア利用型素材搬送システムに対して直接受け渡したりする容器搬送機構体を備えた移送モジュールを有する、システム。

IPC (2件)：

H01L 21/677 , B65G 49/07

FI (3件)：

H01L21/68 A , B65G49/07 L , B65G49/07 A

Fターム (49件)：

5F131AA02 , 5F131BB02 , 5F131BB03 , 5F131CA24 , 5F131CA25 , 5F131CA32 , 5F131DA05 , 5F131DA42 , 5F131DB14 , 5F131DB51 , 5F131DB62 , 5F131DB72 , 5F131DB78 , 5F131DB82 , 5F131DB88 , 5F131DB92 , 5F131DB93 , 5F131DC02 , 5F131DC03 , 5F131DD02 , 5F131DD03 , 5F131DD52 , 5F131DD73 , 5F131DD82 , 5F131EA22 , 5F131FA14 , 5F131FA32 , 5F131FA33 , 5F131GA03 , 5F131GA14 , 5F131GA19 , 5F131GA33 , 5F131GA73 , 5F131GA83 , 5F131GA88 , 5F131GA92 , 5F131GB02 , 5F131GB12 , 5F131GB22 , 5F131GB28 , 5F131HA02 , 5F131HA05 , 5F131HA28 , 5F131HA29 , 5F131HA37 , 5F131KA12 , 5F131KA22 , 5F131KA52 , 5F131KB32

引用特許：

出願人引用 (5件)

基板処理装置、基板処理方法および半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-115619 出願人：株式会社日立国際電気
カセットの保管および移動装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-076334 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
材料搬送システム
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-501770 出願人：ブルックスオートメーションインコーポレイテッド

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