特許
J-GLOBAL ID：201303053759177961

基板処理装置

発明者：
加藤 寿

加藤 寿 について

, 
菱谷 克幸

菱谷 克幸 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-095779
公開番号（公開出願番号）：特開2013-222948
出願日： 2012年04月19日
公開日（公表日）： 2013年10月28日
要約：
【課題】回転テーブルにより公転している基板に対して処理ガスを用いて処理を行うにあたり、スループットの低下を抑えながら、また面内における処理の均一性を確保しながら、回転テーブルと基板との接触によるパーティクルの発生を抑制すること。【解決手段】ウエハWを落とし込んで収納するための凹部24について、ウエハWよりも径を大きく形成すると共に、この凹部24の底面に、ウエハWを載置するための載置台25を配置する。そして、この載置台25について、ウエハWが回転テーブル2の遠心力によって当該回転テーブル2の外周部側に移動した時に、ウエハWの周縁部が載置台25から全周に亘ってはみ出す大きさに設定する。また、載置台25の中心について、凹部24の中心に対して回転テーブル2の外周部側に偏心させる。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
真空容器内にて回転テーブル上に載置した円形の基板を公転させながら基板に対して処理ガスを供給して処理を行う基板処理装置において、 前記回転テーブルの表面に設けられ、前記基板よりも径が大きい円形の凹部と、 前記基板が載置された時にこの基板の下面が前記回転テーブルの表面よりも低くなるように前記凹部内に設けられた円形の載置台と、 前記載置台上の基板に対して処理ガスを供給するための処理ガス供給部と、 前記真空容器内を真空排気するための真空排気機構と、を備え、 前記載置台は、前記回転テーブルの回転に伴う遠心力によって基板が前記凹部の内壁面に接触した時に、基板の周縁部が全周に亘って前記載置台からはみ出す大きさに設定され、 前記載置台の中心は、前記凹部の中心よりも前記回転テーブルの外周部側に偏心していることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/31 ,  C23C 16/458
FI (2件)：
H01L21/31 C ,  C23C16/458
Fターム (41件)：
4K030AA06 ,  4K030AA14 ,  4K030BA44 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA03 ,  4K030FA01 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030GA06 ,  4K030HA01 ,  4K030LA02 ,  4K030LA15 ,  5F045AA08 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AB40 ,  5F045AC03 ,  5F045AC05 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AD07 ,  5F045AE01 ,  5F045BB01 ,  5F045BB08 ,  5F045BB14 ,  5F045DP15 ,  5F045DP27 ,  5F045DQ10 ,  5F045DQ12 ,  5F045EC01 ,  5F045EF03 ,  5F045EF09 ,  5F045EF13 ,  5F045EF20 ,  5F045EH04 ,  5F045EK07 ,  5F045EM02
引用特許：
出願人引用 (4件)
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