特許
J-GLOBAL ID:201303054048772103

微細相分離構造体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 小林 浩 ,  大森 規雄 ,  岩田 耕一 ,  鈴木 康仁
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-196335
公開番号(公開出願番号):特開2013-057012
出願日: 2011年09月08日
公開日(公表日): 2013年03月28日
要約:
【課題】ブロックコポリマーの自己組織化と、溶液中における相分離を利用し、秩序だった微細構造を有する構造体(規則的なパターン構造を有する微細相分離構造体)を直接的かつ簡便に製造する方法を提供する。【解決手段】本発明に係る規則的なパターン構造を有する微細相分離構造体は、水系溶媒中で、非荷電性親水性のポリマー鎖セグメントとアニオン性のポリマー鎖セグメントとを含むブロックコポリマーと、カチオン性のポリマー鎖セグメントを含むポリマーとを混合する、又は、非荷電性親水性のポリマー鎖セグメントとカチオン性のポリマー鎖セグメントとを含むブロックコポリマーと、アニオン性のポリマー鎖セグメントを含むポリマーとを混合し、当該混合後又は当該混合時に前記溶媒中に塩化合物を添加することにより得られるものである。【選択図】なし
請求項(抜粋):
水系溶媒中で、非荷電性親水性のポリマー鎖セグメントとアニオン性のポリマー鎖セグメントとを含むブロックコポリマーと、カチオン性のポリマー鎖セグメントを含むポリマーとを混合する、又は、非荷電性親水性のポリマー鎖セグメントとカチオン性のポリマー鎖セグメントとを含むブロックコポリマーと、アニオン性のポリマー鎖セグメントを含むポリマーとを混合し、当該混合後又は当該混合時に前記溶媒中に塩化合物を添加することにより得られる、規則的なパターン構造を有する微細相分離構造体。
IPC (3件):
C08J 3/02 ,  C08L 77/00 ,  C08G 69/40
FI (3件):
C08J3/02 D ,  C08L77/00 ,  C08G69/40
Fターム (32件):
4F070AA54 ,  4F070AB03 ,  4F070AB05 ,  4F070AB08 ,  4F070AB11 ,  4F070AC17 ,  4F070AE14 ,  4F070CA01 ,  4F070CB03 ,  4F070CB12 ,  4J001DA02 ,  4J001DB05 ,  4J001DC05 ,  4J001DD10 ,  4J001DD15 ,  4J001EA36 ,  4J001ED64 ,  4J001GE02 ,  4J001JA17 ,  4J001JA20 ,  4J001JB16 ,  4J001JC06 ,  4J002CL00X ,  4J002CL02W ,  4J002CL09X ,  4J002DD056 ,  4J002DD066 ,  4J002DD076 ,  4J002FD206 ,  4J002GB00 ,  4J002GD00 ,  4J002GH01

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