特許
J-GLOBAL ID：201303056370651390
プラズマ放電処理装置およびプラズマ放電処理方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
特許業務法人光陽国際特許事務所
, 荒船 博司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-022595
公開番号（公開出願番号）：特開2006-253118
特許番号：特許第5034245号
出願日： 2006年01月31日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 対向して配設された一対の電極と、
前記一対の電極に電圧を印加する電圧印加手段と、
前記一対の電極間に、窒素を主成分として含有する放電ガスおよび反応ガスを含む混合ガスを供給するガス供給手段と、
を備え、
大気圧近傍の圧力下で、前記ガス供給手段により前記一対の電極間に前記混合ガスを供給し、前記電圧印加手段から前記一対の電極間に周期的に変化する電圧をそれぞれ供給することにより前記一対の電極間に周期的に変化する電界をかけることで前記混合ガスを介して前記一対の電極間で放電を生じさせて前記混合ガスをプラズマ化させて、時間平均密度が8.0×1016〜1×1020[m-3]の範囲のN4+イオンを含有するプラズマ放電処理用ガスを生成し、生成した前記プラズマ放電処理用ガスを用いて基材に対するプラズマ放電処理を行うことを特徴とするプラズマ放電処理装置。
IPC (7件)：
H05H 1/24 ( 200 6.01)
, C23C 16/42 ( 200 6.01)
, B01J 19/08 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
, B08B 7/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
H05H 1/24
, C23C 16/42
, B01J 19/08 H
, H01L 21/304 645 C
, B08B 7/00
, H01L 21/205
, H01L 21/302 101 E
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示
引用文献：
前のページに戻る
