インプリント用位置合わせマーク、該マークを備えたテンプレートおよびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：金山聡 , 深町圭子 , 伊藤英生 , 藤枡裕実 , 後藤直樹 , 伊藤裕介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-163839
公開番号（公開出願番号）：特開2013-030522
出願日： 2011年07月27日
公開日（公表日）： 2013年02月07日
要約：

【課題】インプリント用テンプレートに設ける洗浄耐性に優れたハイコントラストの位置合わせマーク、該マークを備えたテンプレート及びその製造方法を提供する。【解決手段】光透過性基材の一主面に凹凸パターンを形成したテンプレート10を、被加工基板上の光硬化性材料に押し付けると共に、テンプレート10を介して光硬化性材料を感光させる光を照射することによって、光硬化性材料を光硬化させて凹凸パターンを転写するインプリント方法に用いるテンプレートの位置合わせマーク13であって、前記位置合わせマーク13が、光透過性基材を掘り込んで形成した凹凸パターン部と、凹凸パターン部の光透過性基材上に形成された遮光膜パターン部16からなり、前記遮光膜パターン部16が遮光膜14と該遮光膜上に設けた耐洗浄性保護膜15との2層膜で構成されていることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光透過性基材の一主面に凹凸パターンを形成したテンプレートを、被加工基板上の光硬化性材料に押し付けると共に、前記テンプレートを介して前記光硬化性材料を感光させる光を照射することによって、前記光硬化性材料を光硬化させて前記凹凸パターンを転写するインプリントに用いるテンプレートの位置合わせマークであって、前記位置合わせマークが、前記光透過性基材を掘り込んで形成した凹凸パターン部と、前記凹凸パターン部の前記光透過性基材上に形成された遮光膜パターン部とからなり、前記遮光膜パターン部が遮光膜と該遮光膜上に設けた耐洗浄性保護膜との2層膜で構成されていることを特徴とするテンプレートの位置合わせマーク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , B29C 59/02 , B29C 33/38

FI (3件)：

H01L21/30 502D , B29C59/02 B , B29C33/38

Fターム (37件)：

4F202AA44 , 4F202AC05 , 4F202AF01 , 4F202AG05 , 4F202AH33 , 4F202AH73 , 4F202AJ06 , 4F202AJ09 , 4F202AP06 , 4F202AQ01 , 4F202AR07 , 4F202CA19 , 4F202CB01 , 4F202CB29 , 4F202CD04 , 4F202CD23 , 4F202CK25 , 4F202CQ05 , 4F209AA44 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH73 , 4F209AP06 , 4F209AQ01 , 4F209AR07 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PN06 , 4F209PN09 , 4F209PN13 , 5F146AA32 , 5F146AA34 , 5F146EB01 , 5F146EB02 , 5F146EB07 , 5F146ED01

引用特許：

審査官引用 (3件)

高コントラスト位置合わせマークを有するテンプレート
公報種別：公表公報出願番号：特願2012-552119 出願人：モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
モールド、インプリント方法、及びチップの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-194905 出願人：キヤノン株式会社
インプリントリソグラフィ
公報種別：公表公報出願番号：特願2012-543540 出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.

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