不純物拡散用塗布液

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-114383
公開番号（公開出願番号）：特開2013-008953
出願日： 2012年05月18日
公開日（公表日）： 2013年01月10日
要約：

【課題】スクリーン印刷に好適であり、長時間の連続印刷や休止期間をおいた印刷が可能であり、皮膜形成後の半導体基板を直立状態で焼成したとしても抵抗値の上下バラツキが小さい半導体が得られるリン拡散用塗布液を提供すること。【解決手段】ポリビニルアルコール系樹脂(A)、不純物(B)、および沸点が100°C以上の多価アルコール(C)を含有し、該多価アルコール(C)の含有量が塗布液中の70重量%以上である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ポリビニルアルコール系樹脂(A)、不純物(B)、および沸点が100°C以上の多価アルコール(C)を含有し、該多価アルコール(C)の含有量が塗布液中の70重量%以上であることを特徴とする不純物拡散用塗布液。

IPC (1件)：

H01L 21/225

FI (1件)：

H01L21/225 R

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平3-119722
ホウ素拡散用塗布液
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-350728 出願人：東京応化工業株式会社
ホウ素拡散用塗布液
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-213030 出願人：日本合成化学工業株式会社, 直江津電子工業株式会社, サンケン電気株式会社

全件表示

前のページに戻る