特許

J-GLOBAL ID：201303061519764315

フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： 宮田 拡 ,  中島 浩光 ,  吉田 昌史 ,  笠原 一樹
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (9件)： 天野 一規 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  石田 耕治 ,  各務 幸樹 ,  根木 義明 ,  新庄 孝 ,  川端 和也 ,  柴尾 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-219897
公開番号（公開出願番号）：特開2013-225094
出願日： 2012年10月01日
公開日（公表日）： 2013年10月31日
要約：

【課題】CDU性能、LWR性能及び断面形状の矩形性に優れるフォトレジスト組成物の提供。【解決手段】[A](5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.3.1.13,8]ウンデカン構造を側鎖に有する特定のアクリル系構造単位を有する重合体、及び[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体、及び [B]酸発生体 を含有するフォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/28

FI (5件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/28

Fターム (45件)：

2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF70P ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA15P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC60R ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ホモアダマンタン誘導体、その製造方法及びフォトレジスト用感光性材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-086352   出願人：出光興産株式会社
• 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-141027   出願人：富士フイルム株式会社
• 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-210284   出願人：住友化学株式会社
• 特願2011-222429
  出願番号：特願2011-222429  
• 特願2011-222429
  出願番号：特願2011-222429