特許
J-GLOBAL ID：201303064597576621
原子層堆積法によるフレキシブル基板への成膜方法及び成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野田 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-207046
公開番号（公開出願番号）：特開2013-067832
出願日： 2011年09月22日
公開日（公表日）： 2013年04月18日
要約：
【課題】装置全体を小型化すると共に、作業効率を向上させて生産性を向上させることができる成膜方法及び成膜装置を提供する。【解決手段】複数のガイドローラーユニット200は、フレキシブル基板107を適宜屈曲させ該フレキシブル基板107の内側に第1空間部201と、この第1空間部201に隣接する第2空間部203とが形成される。また、フレキシブル基板107と、チャンバー100の壁部とで第3空間部203、第4空間部204が形成される。第1空間部201に第1の前駆体ガスが供給される。第2空間部202に第1のパージガスが供給される。第3空間部203に第2の前駆体ガスが供給される。第4空間部204に第2のパージガスが供給される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
連続して延在するフレキシブル基板をガイドローラーに掛装させてチャンバー内を搬送させ、前記搬送中に原子層堆積法により前記フレキシブル基板上に薄膜を形成する成膜方法であって、
前記複数のガイドローラーにより、搬送中の前記フレキシブル基板を適宜屈曲させることで該フレキシブル基板の内側に第1空間部と、この第1空間部に隣接する第2空間部とが形成されるガイドローラーユニットを複数設け、
さらに、前記フレキシブル基板が搬送される方向で前記各ガイドローラーユニットよりも上流側および下流側に位置するフレキシブル基板と、前記チャンバーの壁部とにより前記第2空間部に隣接する第3空間部を形成し、
前記第1空間部に第1の前駆体ガスを供給し、
前記第2空間部に前記第1の前駆体ガスおよび第2の前駆体ガスをパージする第1のパージガスを供給し、
前記第3空間部に前記第2の前駆体ガスを供給する、
ことを特徴とする成膜方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
4K030CA17
, 4K030EA06
, 4K030FA01
, 4K030GA14
