超音波洗浄方法および超音波洗浄装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人深見特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-118633
公開番号（公開出願番号）：特開2013-247183
出願日： 2012年05月24日
公開日（公表日）： 2013年12月09日
要約：

【課題】安定して高いパーティクル除去率が得られる超音波洗浄方法および超音波洗浄装置を提供する。【解決手段】超音波洗浄方法は、気体2が溶存された液体1に超音波を照射することにより液体1中の洗浄対象物を洗浄するための超音波洗浄方法であって以下の工程を有している。気体2が溶存された液体が準備される。液体1に超音波を照射しながら液体1中で気泡を発生させて、液体1に溶存した気体2を含む気泡が発生し続ける状態が実現される。気体2を含む気泡が発生し続ける状態において洗浄対象物が洗浄される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

気体が溶存された液体に超音波を照射することにより前記液体中の洗浄対象物を洗浄するための超音波洗浄方法であって、前記気体が溶存された前記液体を準備する工程と、前記液体に超音波を照射しながら前記液体中に気体を導入して、前記液体に溶存した前記気体を含む気泡が発生し続ける状態を実現する工程と、前記気体を含む気泡が発生し続ける状態において前記洗浄対象物を洗浄する工程とを備えた、超音波洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 , B08B 3/12

FI (2件)：

H01L21/304 642E , B08B3/12 A

Fターム (15件)：

3B201AA03 , 3B201AB01 , 3B201BB02 , 3B201BB83 , 3B201BB88 , 5F157AA42 , 5F157AA46 , 5F157AA73 , 5F157AB34 , 5F157AC01 , 5F157BB02 , 5F157BB73 , 5F157BB79 , 5F157CE31 , 5F157DB02

引用特許：

審査官引用 (4件)

超音波洗浄処理方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-119037 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板の洗浄方法及び基板の洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-276493 出願人：株式会社東芝
キャビテーション気泡観察装置およびキャビテーション気泡観察方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-246865 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所

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