特許
J-GLOBAL ID：201303069395304370

インプリント装置および物品の製造方法

発明者：
田中 悠輔

田中 悠輔 について

, 
鳥居 弘稔

鳥居 弘稔 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-151407
公開番号（公開出願番号）：特開2013-055327
出願日： 2012年07月05日
公開日（公表日）： 2013年03月21日
要約：
【課題】 型に形成されているパターンと、基板上に既に形成されているパターンとの重ね合わせ精度の向上に有利なインプリント装置を提供すること。【解決手段】 本発明のインプリント装置は、基板上のインプリント材を型により成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、前記型はパターン部を有する面を有し、前記型を保持する型保持手段と、前記基板を保持する基板保持手段と、前記パターン部と前記基板上に既に形成されているショットとの形状の違いに関する情報を取得する第1の取得手段とを有し、前記パターン部と前記インプリント材が接触している状態における前記型と前記基板との間隔を前記第1の取得手段により取得した前記形状の違いに関する情報に基づいて調整するために、前記型保持部と基板保持部の少なくとも一方を制御する制御手段を有することを特徴とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板上のインプリント材を型により成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、 前記型はパターン部を有する面を有し、前記型を保持する型保持手段と、 前記基板を保持する基板保持手段と、 前記パターン部と前記基板上に既に形成されているショットとの形状の違いに関する情報を取得する第1の取得手段とを有し、 前記パターン部と前記インプリント材が接触している状態における前記型と前記基板との間隔を、前記第1の取得手段により取得した前記形状の違いに関する情報に基づいて調整するために、前記型保持部と基板保持部の少なくとも一方を制御する制御手段を有することを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (2件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z
Fターム (18件)：
4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209AH79 ,  4F209AP02 ,  4F209AP06 ,  4F209AP11 ,  4F209AR01 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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