特許

J-GLOBAL ID：201003011856801576

押印装置および物品の製造方法

発明者： 稲 秀樹 ,  稲田 博志 ,  三島 和彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-248073
公開番号（公開出願番号）：特開2010-080714
出願日： 2008年09月26日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：

【課題】 押印装置における重ね合わせ精度の改善。【解決手段】 モールドチャックを含むモールドステージと、基板チャックを含むX-Yステージとを有し、基板チャックに保持された基板に配された液状樹脂にモールドチャックに保持されたモールドをZ軸方向において押し付けた状態で液状樹脂を硬化させて樹脂のパターンを基板に形成する押印装置であって、モールドチャックは、基部と、モールドの複数の周辺部をそれぞれ保持する複数の保持部と、複数の保持部を基部に対しZ軸方向においてそれぞれ位置決めする複数の第1の駆動機構と、を有するものとする。【選択図】 図8

請求項（抜粋）：

モールドチャックを含むモールドステージと、基板チャックを含むX-Yステージとを有し、前記基板チャックに保持された基板に配された液状樹脂に前記モールドチャックに保持されたモールドをZ軸方向において押し付けた状態で前記液状樹脂を硬化させて樹脂のパターンを前記基板に形成する押印装置であって、 前記モールドチャックは、 基部と、 モールドの複数の周辺部をそれぞれ保持する複数の保持部と、 前記複数の保持部を前記基部に対しZ軸方向においてそれぞれ位置決めする複数の第1の駆動機構と、 を有することを特徴とする押印装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z

Fターム (15件)：

4F209AA44 ,  4F209AC05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AR07 ,  4F209PA02 ,  4F209PB02 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28 ,  5F046CC09 ,  5F046DA06 ,  5F046DB04 ,  5F046DC04

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 倍率補正装置および倍率補正装置を搭載したX線露光装置ならびにデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-136078   出願人：キヤノン株式会社
• マスクパターン偏倍方法、偏倍装置及びマスク構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-190809   出願人：キヤノン株式会社
• パターン描画方法及び描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-382390   出願人：株式会社東芝
• 描画パターンデータの生成方法及びマスクの描画方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-087820   出願人：株式会社東芝