特許
J-GLOBAL ID：201303070629544417
真空セメンティングシステムのための真空を生成する装置および方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
正林 真之
, 林 一好
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-211394
公開番号（公開出願番号）：特開2013-135833
出願日： 2012年09月25日
公開日（公表日）： 2013年07月11日
要約：
【課題】真空セメンティング装置のための真空を生成する装置、及び、真空セメンティングシステムにおいて負圧を生成する方法に関する。【解決手段】チャネルと、ガスカートリッジのためのコネクタとを備え、コネクタは、ガスカートリッジを開口するための開口器具を備え、ガスカートリッジは、気密形式でコネクタを介してチャネルに接続されることができるか、または接続され、開口したガスカートリッジからのガスがチャネルに沿って流れ、チャネルは、コネクタを装置の周囲部に接続し、チャネルは、真空セメンティング装置のための真空コネクタ12を有する少なくとも1つのT継手を備え、T継手は、ベンチュリノズルとして提供され、チャネルを通して流れる開口したガスカートリッジからのガスが真空コネクタ12にて負圧を生成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空セメンティング装置のための真空を生成する装置(1、20、40、60)であって、
前記装置(1、20、40、60)は、チャネル(50、70)と、ガスカートリッジ(44、64)のためのコネクタとを備え、前記コネクタは、前記ガスカートリッジ(44、64)を開口するための開口器具(57、77)を備え、前記ガスカートリッジ(44、64)は、気密形式で前記コネクタを介して前記チャネル(50、70)に接続されることができるか、または接続され、開口した前記ガスカートリッジ(44、64)からのガスが前記チャネル(50、70)に沿って流れ、前記チャネル(50、70)は、前記コネクタを前記装置(1、20、40、60)の周囲部に接続し、前記チャネル(50、70)は、前記真空セメンティング装置のための真空コネクタ(12、32、52、72)を有する少なくとも1つのT継手(53、73)を備え、前記T継手(53、73)は、ベンチュリノズル(53、73)として提供され、前記チャネル(50、70)を通して流れる開口した前記ガスカートリッジ(44、64)からのガスが前記真空コネクタ(12、32、52、72)にて負圧を生成する、装置(1、20、40、60)。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
