特許
J-GLOBAL ID:201303070786445864
イオンエネルギー分布を制御するためのシステム、方法、および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
山本 秀策
, 森下 夏樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-527088
公開番号(公開出願番号):特表2013-538457
出願日: 2011年08月11日
公開日(公表日): 2013年10月10日
要約:
プラズマチャンバ内のイオンエネルギーを調整するためのシステム、方法、および装置を開示する。例示的方法は、基板をプラズマチャンバ内に載置することと、プラズマをプラズマチャンバ内で形成することと、周期的電圧関数を基板に印加するために、基板に対する電力を制御可能に切り替えることと、時間平均に基づくイオンエネルギーの所望の分布をもたらすために、基板の表面におけるイオンのエネルギーの所望の分布に応答して、周期的電圧関数の複数のサイクルにわたって周期的電圧関数を変調することとを含む。
請求項(抜粋):
プラズマ系処理のためのシステムであって、
プラズマを含むように構成されているプラズマ処理チャンバと、
前記プラズマ処理チャンバ内に位置付けられ、基板を支持するように配置されている基板支持部と、
イオンエネルギー制御部分であって、前記イオンエネルギー制御部分は、前記基板の表面における所望の分布イオンエネルギー分布を示す少なくとも1つのイオンエネルギー分布設定に応答して、少なくとも1つのイオンエネルギー制御信号を提供する、イオンエネルギー制御部分と、
前記基板支持部および前記イオンエネルギー制御部分に結合されているスイッチモード電力供給部であって、前記スイッチモード電力供給部は、前記イオンエネルギー制御信号に応答して、前記基板に電力を印加することにより、前記基板の表面において、前記所望のイオンエネルギー分布をもたらすように構成されている1つ以上の切替構成要素を含む、スイッチモード電力供給部と、
前記基板支持部に結合されているイオン電流補償構成要素であって、前記イオン電流補償構成要素は、前記イオンエネルギー分布の制御可能な幅をもたらす、イオン電流補償構成要素と
を備えている、システム。
IPC (4件):
H01L 21/306
, H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23C 14/54
FI (5件):
H01L21/302 101B
, H05H1/46 L
, H05H1/46 M
, C23C16/50
, C23C14/54 B
Fターム (15件):
4K029AA06
, 4K029AA24
, 4K029CA03
, 4K029CA05
, 4K029CA13
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030FA01
, 4K030KA20
, 4K030LA15
, 5F004BA04
, 5F004BA20
, 5F004BB13
, 5F004BD04
, 5F004CA06
引用特許:
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