サグ補償機能付き高周波電源を有するプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人第一国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-357828
公開番号（公開出願番号）：特開2004-193564
出願日： 2003年10月17日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：

【課題】高速で高精度のエッチング処理に好適なプラズマ処理装置を提供する。【解決の手段】高周波電圧の絶対値が時間とともに増加し、正電圧と負電圧にスイッチングする電圧波形をウェハ載置用電極9に印加し、その結果ウェハ10に矩形高周波電圧を発生させるように構成したことにより、矩形高周波電圧のデューティ比が減少するとともに、ウェハに入射するイオンのエネルギ-分布における高エネルギ-イオンの比率が増加するので、高効率で高精度のエッチング加工が可能となり、材料選択比が向上するという効果がある。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理室内部にプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、被処理材に高周波電圧を印加する手段と、真空排気装置が接続され内部を減圧可能な処理室と、前記処理室内へのガス供給装置とから成るプラズマ処理装置において、被処理材に発生する高周波電圧波形が略矩形となる高周波電圧を印加する手段を有することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H01L21/3065 , C23F4/00 , H01L21/205 , H05H1/24 , H05H1/46

FI (6件)：

H01L21/302 101B , C23F4/00 A , H01L21/205 , H05H1/24 , H05H1/46 L , H05H1/46 R

Fターム (19件)：

4K057DA16 , 4K057DB20 , 4K057DD01 , 4K057DG15 , 4K057DM08 , 4K057DM19 , 4K057DM20 , 4K057DN01 , 5F004AA02 , 5F004BA08 , 5F004BB12 , 5F004BB13 , 5F004BB18 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F045AA08 , 5F045DP03 , 5F045EH14 , 5F045EH20

引用特許：

出願人引用 (1件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-318901 出願人：株式会社日立製作所, 日立テクノエンジニアリング株式会社

審査官引用 (6件)

パルス波形バイアス電力
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-253481 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
特開平4-335560
ドライエッチングにおける基板入射イオンのエネルギー制御方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-030669 出願人：日本真空技術株式会社, 株式会社アドテック

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