特許

J-GLOBAL ID：201303071059031360

電子密度計測・制御システム

発明者： サーキス、マーレー・ディー ,  バーディアン、ジョセフ・ティー
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (18件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-537762
特許番号：特許第4890714号
出願日： 2000年07月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 プラズマ室に発信周波数信号を供給する電圧制御発振器と、 前記プラズマ室の共振周波数に基づいた検波器信号を生成するための検波器と、 ディザ電圧信号を生成するディザ電圧源と、 前記検波器信号と前記ディザ電圧信号に基づいて生成され、前記プラズマ室のプラズマを含む開放共振器の共振周波数に、前記電圧制御発振器の周波数が固定されるために、前記電圧制御発振器の電圧制御入力に適用されるためのフィードバック信号を生成する周波数安定化回路と、 を具備することを特徴とするプラズマ室に発生させたプラズマを制御する電子密度計測・制御システム。

IPC (3件)：

H05H 1/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H05H 1/00 A ,  H01L 21/302 103 ,  H05H 1/46 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-190548   出願人：株式会社ダイヘン
• プラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-135901   出願人：三菱電機株式会社

引用文献：

審査官引用 (4件)

• The use of microwave resonators for determination of plasma density
• ディザ信号付加によるA/Dコンバータの性能改善
• ディザ信号付加によるA/Dコンバータの性能改善
• ディザ信号付加によるA/Dコンバータの性能改善