真空装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-052326
公開番号（公開出願番号）：特開2002-248337
特許番号：特許第5087190号
出願日： 2001年02月27日
公開日（公表日）： 2002年09月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】横に並んで連結される第1真空チャンバユニットと第2真空チャンバユニットとを備えた真空装置であって、前記両ユニットに及ぶ光路の両端に配置されている複数のレーザ送光装置および複数の受光部材と、前記複数の受光部材は、前記レーザ送光装置からのレーザ光が入射するレーザ入射側に形成されている受光窓と、前記レーザ入射側とは反対側から前記受光窓を覆う拡散部材とを有していることと、前記複数のレーザ送光装置と前記複数の受光部材とはそれぞれ対をなし、前記両ユニットのうち何れか一方または双方に付加されている位置調整手段と、を備える、真空装置。

IPC (4件)：

B01J 3/00 ( 200 6.01) , G01B 11/00 ( 200 6.01) , H01L 21/205 ( 200 6.01) , H01L 21/302 ( 200 6.01)

FI (4件)：

B01J 3/00 J , G01B 11/00 C , H01L 21/205 , H01L 21/302 400

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭64-023170
半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-089142 出願人：国際電気株式会社
特開昭64-023170

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