特許

J-GLOBAL ID：201303077640691957

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス

発明者： 山口 修平
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (3件)： 高松 猛 ,  尾澤 俊之 ,  長谷川 博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-135121
公開番号（公開出願番号）：特開2013-047783
出願日： 2012年06月14日
公開日（公表日）： 2013年03月07日
要約：

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、現像時間依存性が小さく、かつ現像により形成されるパターン部の膜べりを抑制する。【解決手段】(ア)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂(P)、及び、活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)によって表される酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程、を含む、パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(ア)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂(P)、及び、活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)によって表される酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、 (イ)該膜を露光する工程、及び (ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程 を含む、パターン形成方法。

IPC (7件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/32 ,  C09K 3/00 ,  C08F 220/10 ,  H01L 21/027

FI (9件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/32 ,  G03F7/32 501 ,  C09K3/00 K ,  C08F220/10 ,  H01L21/30 502R

Fターム (103件)：

2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA01 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA03 ,  2H096GA18 ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF22P ,  2H125AF36P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH11 ,  2H125AH12 ,  2H125AH13 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL03 ,  2H125AL22 ,  2H125AM12P ,  2H125AM22P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM30P ,  2H125AM32P ,  2H125AM43P ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN31P ,  2H125AN37P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN64P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006AB92 ,  4H006TN10 ,  4H006TN90 ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL03P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA40P ,  4J100BA40Q ,  4J100BA40R ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC07S ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-155323   出願人：富士フイルム株式会社
• ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2008060799   出願人：富士フイルム株式会社
• ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-041379   出願人：富士フイルム株式会社