特許
J-GLOBAL ID：201003045048475353

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法

発明者：
椿 英明

椿 英明 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2008060799
公開番号（公開出願番号）：WO2008-153109
出願日： 2008年06月12日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：
パターンの食い込みが改善された良好な形状のパターンを形成し、更にはラインエッジラフネスが低減され、パターン寸法の面内均一性が高められた、ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 (A)酸の作用により極性が増大し、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸解離指数pKaが-4.0以下の酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用により極性が増大し、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸解離指数pKaが-4.0以下の酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/32 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/038 601 ,  G03F7/32 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (69件)：
2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA03 ,  2H096GA08 ,  2H096HA02 ,  2H096HA05 ,  2H096JA03 ,  2H096JA04 ,  2H096JA08 ,  2H125AF13P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH14 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN62P ,  2H125AN63P ,  2H125AN64P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC23 ,  2H125CD05P ,  2H125CD35 ,  2H125FA05 ,  2H125FA23 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA40P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC04S ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC12S ,  4J100BC52P ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (7件)
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