特許
J-GLOBAL ID：201303078591122719
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人深見特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-514436
特許番号：特許第5303741号
出願日： 2012年12月19日
要約：
【要約】 ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の研磨を行なう工程と、ガラス基板の研磨を行なった後に、ガラス基板の洗浄を行なう工程とを備える。ガラス基板の洗浄を行なう工程は、槽内面がステンレスまたは樹脂からなる第1槽の中でガラス基板の洗浄を行なう工程と、第1槽の中でガラス基板の洗浄を行なう工程が完了した後に行なわれ、槽内面が石英からなる第2槽の中でガラス基板の洗浄を行なう工程とを含む。ガラス基板に付着した不純物のゼータ電位の値と、上記ステンレスおよび上記樹脂のゼータ電位の値と、ガラス基板のゼータ電位の値とが全て同符号であり、ステンレスおよび樹脂のゼータ電位の絶対値よりも、ガラス基板のゼータ電位の絶対値の方が大きい。
請求項（抜粋）：
【請求項1】 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
ガラス基板の研磨を行なう工程と、
前記ガラス基板の研磨を行なった後に、前記ガラス基板の洗浄を行なう工程とを備え、
前記ガラス基板の洗浄を行なう工程は、
槽内面がステンレスまたは樹脂からなる第1槽の中で前記ガラス基板の洗浄を行なう工程と、
前記第1槽の中で前記ガラス基板の洗浄を行なう工程が完了した後に行なわれ、槽内面が石英からなる第2槽の中で前記ガラス基板の洗浄を行なう工程とを含み、
前記ガラス基板に付着した不純物のゼータ電位の値と、前記ステンレスおよび前記樹脂のゼータ電位の値と、前記ガラス基板のゼータ電位の値とが全て同符号であり、前記ステンレスおよび前記樹脂のゼータ電位の絶対値よりも、前記ガラス基板のゼータ電位の絶対値の方が大きい、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/84 ( 200 6.01)
, B08B 3/08 ( 200 6.01)
, B08B 3/12 ( 200 6.01)
G11B 5/84 Z
, B08B 3/08 Z
, B08B 3/12 Z
