蛍光X線分析装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：杉本修司 , 野田雅士 , 堤健郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-071535
公開番号（公開出願番号）：特開2013-205080
出願日： 2012年03月27日
公開日（公表日）： 2013年10月07日
要約：

【課題】分析対象試料に対して適切な補正モデルが設定されて正確な分析ができる蛍光X線分析装置を提供する。【解決手段】組成を仮定した複数の試料3からの蛍光X線4の理論強度に基づいて理論マトリックス補正係数を計算するとともに、標準試料3A中の成分からの蛍光X線4の測定強度と、標準試料3Aにおける成分の含有率との相関関係を、理論マトリックス補正係数で補正した検量線として求めて記憶し、分析対象試料3B中の成分からの蛍光X線4の測定強度に検量線を適用して分析対象試料3Bにおける成分の含有率を算出する算出手段10と、分析対象試料3Bにおける含有率が不明な残分成分を指定するための残分成分指定手段11とを備え、算出手段10が、残分成分指定手段11で残分成分が指定された場合には、分析対象成分自身を含めて残分成分以外の成分を加補正成分とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

試料に1次X線を照射して発生する蛍光X線の強度を測定する蛍光X線分析装置であって、組成を仮定した複数の試料から発生すべき蛍光X線の理論強度に基づいて、蛍光X線の吸収および励起に関する理論マトリックス補正係数を計算するとともに、組成が既知の標準試料中の成分から発生する蛍光X線の測定強度と、標準試料における成分の含有率とを記憶して、両者の相関関係を、前記理論マトリックス補正係数を用いて補正した検量線として求めて記憶し、分析対象試料中の成分から発生する蛍光X線の測定強度に前記検量線を適用して分析対象試料における成分の含有率を算出する算出手段と、分析対象試料における含有率が不明な残分成分を指定するための残分成分指定手段とを備え、前記算出手段が、前記残分成分指定手段で残分成分が指定された場合には、前記理論マトリックス補正係数を計算するにあたり、分析対象成分自身を含めて残分成分以外の成分を加補正成分とする蛍光X線分析装置。

IPC (1件)：

G01N 23/223

FI (1件)：

G01N23/223

Fターム (6件)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001CA01 , 2G001FA02 , 2G001FA08 , 2G001KA01

引用特許：

審査官引用 (2件)

蛍光X線分析方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-068747 出願人：理学電機工業株式会社
蛍光X線分析方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-277664 出願人：理学電機工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (2件)

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