特許
J-GLOBAL ID：201303083285329303
マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 西島 孝喜
, 須田 洋之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-023574
公開番号（公開出願番号）：特開2013-102225
出願日： 2013年02月08日
公開日（公表日）： 2013年05月23日
要約：
【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系を提供する。【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光装置(1)用の照明光学系は、光源(2、2’)からの照明光(3、3’)で物体表面(19)を照明するのに用いられる。少なくとも二つの照明設定を照明光学系の瞳面(12)に設定するために、少なくとも二つの個々の光学モジュール(28、29)を用いる。光学モジュールの上流にある光路には、第1の光学モジュール(28)及び/又は第2の光学モジュール(29)に照明光(3、3’)を任意に送る分離要素(9)がある。二つの光学モジュール(28、29)の下流にある光路には、第1の光学モジュール(28)及び/又は第2の光学モジュール(29)を通過した照明光(3、3’)を照明領域に送る結合要素(35)がある。これにより、照明光学系と光源をも有する照明系とがもたらされ、異なる照明設定間の高速切り換えが可能となる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
物体表面(19)の特定した照明領域を少なくとも一つの光源(2、36)からの照明光(3、38)によって照明するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置(1)用の照明光学系において、
-照明光学系の瞳面(12)に第1の照明設定を設定する第1の光学モジュール(28)と、
-前記第1の光学モジュール(28)とは別の、前記照明光学系の瞳面(12)に第2の照明設定を設定する少なくとも一つの第2の光学モジュール(29)と、
-二つの光学モジュール(28、29)の上流の光路に位置し、照明光(3、38)を前記第1の光学モジュール(28)及び/又は前記第2の光学モジュール(29)に任意に送る少なくとも一つの分離要素(9、40、60)と、
-二つの光学モジュール(28、29)から下流の光路に位置し、前記第1の光学モジュール(28)及び/又は前記第2の光学モジュール(29)を通過した照明光(3、38)を照明領域に送る少なくとも一つの結合要素(35、68)と、
を備えたマイクロリソグラフィ投影露光装置(1)用の照明光学系。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G02B 19/00
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, G02B19/00
2H052BA02
, 2H052BA03
, 2H052BA08
, 2H052BA09
, 2H052BA12
, 5F146CB15
, 5F146CB43
, 5F146DA01
