特許
J-GLOBAL ID：201303083982392811
ゾルゲル法を用いた凹凸基板の製造方法、それに用いるゾル溶液、及びそれを用いた有機EL素子の製造方法並びにそれから得られた有機EL素子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川北 喜十郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-154873
公開番号（公開出願番号）：特開2013-116622
出願日： 2012年07月10日
公開日（公表日）： 2013年06月13日
要約：
【課題】ゾルゲル材料を用いてロールプレスにより高い生産性で微細凹凸パターンを有する基板を製造する。【解決手段】 凹凸パターンを有する基板を製造する方法は、基板上にシリカ前駆体を含むゾル溶液を塗布して塗膜を形成する工程(S2)と、塗膜を乾燥する工程(S3)と、乾燥した塗膜に凹凸パターンを有するモールドを押圧ロールにより押圧する工程(S4)と、モールドを塗膜から剥離する工程(S6)と、凹凸パターンが転写された塗膜を焼成する工程(S7)とを有する。乾燥工程において、塗膜を100°Cで焼成したときの乾燥重量に対する塗膜の重量の重量比が1.4〜8.8となるように乾燥する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
凹凸パターンを有する基板を製造する方法であって、
基板上にシリカ前駆体を含むゾル溶液を塗布して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を乾燥する工程と、
前記乾燥した塗膜に、凹凸パターンを有するモールドを、押圧ロールにより押し付けて凹凸パターンを塗膜に押圧する工程と、
前記モールドを塗膜から剥離する工程と、
前記凹凸パターンが転写された塗膜を焼成する工程とを有し、
前記乾燥工程において、塗膜を100°Cで焼成したときの乾燥重量に対する塗膜の重量の重量比が1.4〜8.8となるように乾燥することを特徴とする凹凸パターンを有する基板を製造する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B29C59/04 B
, H01L21/30 502D
4F209AC05
, 4F209AF01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AH75
, 4F209PA02
, 4F209PA06
, 4F209PC05
, 4F209PC06
, 4F209PC07
, 4F209PN03
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 5F146AA31
, 5F146AA33
