耐食性セラミックス溶射皮膜の形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-265166
公開番号（公開出願番号）：特開2002-068831
特許番号：特許第4733819号
出願日： 2000年09月01日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】MgOとAl2O3との組成比MgO/Al2O3が重量比で0.67〜2.33の範囲である溶射原料を基材上に溶射する耐食性セラミックス溶射皮膜の形成方法であって、溶射皮膜の気孔率(%)と溶射原料の平均粒径(μm)との積が5以下、溶射皮膜の気孔率が3.2〜5%となるようにすることを特徴とする耐食性セラミックス溶射皮膜の形成方法。

IPC (2件)：