特許
J-GLOBAL ID：201303088997288796

スピン流増幅装置

発明者：
市村 雅彦

市村 雅彦 について

, 
菅野 量子

菅野 量子 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (3件)： 平木 祐輔 ,  関谷 三男 ,  渡辺 敏章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-029825
公開番号（公開出願番号）：特開2013-168447
出願日： 2012年02月14日
公開日（公表日）： 2013年08月29日
要約：
【課題】非磁性導電体中のスピン流を増幅する機構を提供する。【解決手段】純粋スピン流が生じる非磁性導電体10に、磁壁の挿入された強磁性体13を接合し、接合部分に磁壁14を位置させる。外部磁場Bなどによって磁壁14を移動させ、磁壁移動に伴うスピン起電力により、スピン流を構成する上向きスピンと下向きスピンに個別にエネルギー付与を行い、スピン流の増幅を行う。【選択図】図1A
請求項（抜粋）：
非磁性導電体と、第1の強磁性体と電流源を備え前記非磁性導電体にスピン注入するスピン注入部と、前記スピン注入部から注入され前記非磁性導電体中を拡散するスピン流を増幅するスピン流増幅部とを有し、 前記スピン流増幅部は、磁壁が挿入された第2の強磁性体と、前記磁壁を移動させる磁壁移動手段とを有し、前記非磁性導電体中を拡散する前記スピン流に前記磁壁移動に伴って当該磁壁の部分に発生する電場を作用させることを特徴とするスピン流増幅装置。
IPC (1件)：
H01L 29/82
FI (1件)：
H01L29/82 Z
Fターム (7件)：
5F092AA20 ,  5F092AC25 ,  5F092BD03 ,  5F092BD04 ,  5F092BD13 ,  5F092BD14 ,  5F092BD19
引用特許：
審査官引用 (4件)
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