特許
J-GLOBAL ID：201303089940503093

軸方向高解像度を有する走査型顕微鏡方法

発明者：
ミューラー,イーゲン,ロルフ

ミューラー,イーゲン,ロルフ について

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カーストゥン,ヘンコー

カーストゥン,ヘンコー について

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ロドニー,ターナー

ロドニー,ターナー について

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ペーター,アクスハウゼン

ペーター,アクスハウゼン について

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ローフ,ギュンター

ローフ,ギュンター について


出願人/特許権者：
エボテック・アーゲー

エボテック・アーゲー について


代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-589987
特許番号：特許第4945025号
出願日： 1999年12月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 分子、分子複合体、ポリマー、ポリマー性粒子、無機材料からの成長粒子、多孔質構造、細胞、バクテリア及びウイルスからなる少なくとも一つの検体を光学的に検出する方法であって、 少なくとも一つの検体が基板(60)上及び/又は内に配置され、前記基板(60)は支持体(61)上に配置されると共に基板(60)に近接する前記支持体(61)を含む少なくとも一つの構成部品とは異なる屈折率を有し、 少なくとも一つの検体は共焦点または多光子励起用に構成された少なくとも一つのデバイスを使用して測定ボリューム(70)で走査され、前記デバイスは第1放射源(10)と少なくとも一つの第1対物レンズ(32)とからなり、それによって少なくとも一つの検体の特徴付けのための信号処理によって処理される光学的パラメータの測定値を受け取り、 少なくとも一つの検体は測定値取得の間、実質的に基板(60)または支持体(61)またはその両方に対してその位置を維持し、 走査プロセスの前及び/又はその間、補助焦点(71)は少なくとも一つの第2放射源(11)と第2対物レンズ(34)とによって発生され、前記補助焦点(71)は基板(60)と近接する構成部品との間のインタフェイス(62)上または前記検体への規定された空間関係を有する他のインタフェイス(62)上に少なくとも部分的に配置され、 第1放射源(10)から発生された放射は第1光学系(33)で平行にされ、第2放射源(11)から発生された放射は第1光学系(33)とは異なる第2光学系(35)で平行にされ、 補助焦点(71)からの再帰反射は、共焦点配置された絞り(51)を有する検出器(21)、または像平面の前方及び/又は後方でしかも補助焦点(71)を発生する第2対物レンズ(34)の光軸に沿って配置された絞り(51,52)を有する複数の検出器(21、22)によって検出され、前記再帰反射はインタフェイス(62)の位置の測定及びこのようにして測定ボリューム(70)の間接的な位置決めに使用され、 測定ボリューム(70)に対する補助焦点(71)の位置は規定された方法で調節されまたは調節可能であること を特徴とする少なくとも一つの検体を光学的に検出する方法。
IPC (2件)：
G01N 21/17 ( 200 6.01) ,  G01B 11/00 ( 200 6.01)
FI (2件)：
G01N 21/17 625 ,  G01B 11/00 C
引用特許：
審査官引用 (6件)
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