特許
J-GLOBAL ID：201303090758063558

排水処理装置および排水処理方法

発明者：
後藤 雅司

後藤 雅司 について

, 
長谷川 宏治

長谷川 宏治 について

, 
吉岡 顕治

吉岡 顕治 について


出願人/特許権者：
フジクリーン工業株式会社

フジクリーン工業株式会社 について


代理人 (5件)： 岡田 英彦 ,  福田 鉄男 ,  池田 敏行 ,  岩田 哲幸 ,  中村 敦子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-291319
公開番号（公開出願番号）：特開2003-094039
特許番号：特許第5073138号
出願日： 2001年09月25日
公開日（公表日）： 2003年04月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】消毒槽に流入した被処理水を槽内において滞留させ、消毒処理を行ったうえで消毒槽外へ流出させる構成の排水処理装置であって、 前記消毒槽の水位を基準水位に維持する水位維持手段を備え、この水位維持手段によって維持される基準水位における滞留量が、前記消毒槽の処理能力に基づいて定められる必要滞留量に実質的に一致し、 被処理水を消毒槽外へ流出させる流出ポンプが、被処理水を吸入するポンプ機構部と、ポンプ機構部を駆動するモータ部と、吐出配管とを有し、前記ポンプ機構部を前記基準水位に設けることで前記水位維持手段が構成されるとともに、前記ポンプ機構部自体から吸入された被処理水を、前記吐出配管を通じて前記消毒槽外に吐出する構成であり、 前記消毒槽へ被処理水が流入する流入部を備えるとともに、前記流入部が、前記基準水位よりも低所の前記消毒槽の底部まで延びる構成であることを特徴とする排水処理装置。
IPC (1件)：
C02F 3/00 ( 200 6.01)
FI (2件)：
C02F 3/00 F ,  C02F 3/00 B
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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