特許
J-GLOBAL ID：201303091849362805

インプリント装置、それを用いた物品の製造方法

発明者：
山口 直樹

山口 直樹 について

, 
藤本 正敬

藤本 正敬 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高岡 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-054892
公開番号（公開出願番号）：特開2013-191628
出願日： 2012年03月12日
公開日（公表日）： 2013年09月26日
要約：
【課題】硬化を意図しない樹脂に対して樹脂を硬化させる光が照射されるのを抑えるのに有利なインプリント装置を提供する。【解決手段】インプリント装置1は、基板8上の樹脂9を型7により成形し、光の照射により硬化させて、基板8上にパターンを形成する。このインプリント装置1は、光を照射するための光照射部2と、型7を保持し、保持された型7を介して基板8に向けて光照射部2から照射された光が通過するように開口13が形成された型保持部3とを備える。ここで、基板8上または型7の少なくともいずれかを反射した反射光が入射し得る型保持部3の表面の少なくとも一部は、光照射部2から照射された光に対する型7の反射率よりも低い反射率である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上の樹脂を型により成形し、光の照射により硬化させて、前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、 前記光を照射するための光照射部と、 前記型を保持し、保持された前記型を介して前記基板に向けて前記光照射部から照射された前記光が通過するように開口が形成された型保持部と、を備え、 前記基板上または前記型の少なくともいずれかを反射した反射光が入射し得る前記型保持部の表面の少なくとも一部は、前記光照射部から照射された前記光に対する前記型の反射率よりも低い反射率であることを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (2件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z
Fターム (16件)：
4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AJ06 ,  4F209AK03 ,  4F209AL02 ,  4F209AM32 ,  4F209PA02 ,  4F209PA15 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA32
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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