モールド、インプリント装置および構造体の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長尾達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-240346
公開番号（公開出願番号）：特開2007-103924
出願日： 2006年09月05日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：

【課題】光硬化樹脂の硬化を意図していない領域の硬化を低減、あるいは抑制することができるモールド、インプリント装置および構造体の製造方法を提供する。【解決手段】光硬化性樹脂の硬化を意図していない領域の硬化を低減、あるいは抑制するために、本発明は、凹凸パターン部と非パターン部とを有するモールドにおいて、前記非パターン部に遮光部材を設け非パターン部を介した光硬化性樹脂の露光を抑制するか、モールドを介することなく光が光硬化性樹脂に照射されないように遮光部材を設けることにより光硬化性樹脂の露光を抑制する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光硬化性の被加工物に凹凸パターンを有するモールドを接触させた状態で、該モールドを介して前記被加工物に該被加工物を硬化させるための光を照射して、前記被加工物に加工を施すインプリント装置に用いられるモールドにおいて、凹凸パターンを有する加工面と、前記加工面に相対する裏面と、前記凹凸パターンが設けられていない非パターン部と、を有し、前記非パターン部には、該非パターン部を介して前記被加工物に照射される光を減ずるための遮光部材が設けられていることを特徴とするモールド。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , B81C 5/00 , B29C 39/10 , B29C 39/32 , B29C 33/42

FI (5件)：

H01L21/30 502D , B81C5/00 , B29C39/10 , B29C39/32 , B29C33/42

Fターム (28件)：

4F202AA44 , 4F202AF01 , 4F202AG05 , 4F202AH36 , 4F202AK03 , 4F202AR20 , 4F202CA01 , 4F202CA19 , 4F202CB01 , 4F202CD23 , 4F202CN01 , 4F202CN17 , 4F202CN24 , 4F204AA44 , 4F204AF01 , 4F204AG03 , 4F204AG05 , 4F204AH33 , 4F204AH73 , 4F204EA03 , 4F204EB01 , 4F204EB11 , 4F204EF27 , 4F204EK18 , 4F204EK24 , 5F046AA25 , 5F046AA28 , 5F046BA10

引用特許：

審査官引用 (15件)

特開昭52-026171
特開平2-289311
インプリント・リソグラフィ
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-377504 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ

全件表示

引用文献：

審査官引用 (1件)

S-FIL(TM) for sub-80nm contact hole patterning

前のページに戻る