特許

J-GLOBAL ID：201303093476878574

リソグラフィ投影装置

発明者： ポーラス マルティヌス マリア リーブレクツ ,  ヨハネス ヘンリクス ヴィルヘルムス ヤコブス ,  タムモ ウィッテルディユク
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-024784
公開番号（公開出願番号）：特開2012-114459
特許番号：特許第5108157号
出願日： 2012年02月08日
公開日（公表日）： 2012年06月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板の近傍の空間に閉じ込められた液体を介して前記基板へとパターンを投影するリソグラフィ投影装置であって、前記空間に、前記空間を片側から反対側へ流れる液体の層流を促進する液体調整器を備え、前記液体調整器は、前記液体を前記基板の平面とほぼ平行な方向に流すように構成され、前記空間内の前記液体の層流の向きは、露光中の投影システム下の基板の移動方向に対してほぼ垂直である、リソグラフィ投影装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 浸漬フォトリソグラフィシステム及びマイクロチャネルノズルを使用する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-181684   出願人：エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップ
• 液浸リソグラフィシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-113926   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置及び露光方法、デバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-412585   出願人：株式会社ニコン