特許
J-GLOBAL ID：200903018255761686

露光装置及び露光方法、デバイス製造方法

発明者：
長坂 博之

長坂 博之 について

, 
馬込 伸貴

馬込 伸貴 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-412585
公開番号（公開出願番号）：特開2004-207711
出願日： 2003年12月10日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：
【課題】 液浸法で露光処理する場合において基板の外側に液体が流出しても環境変動を抑えて精度良くパターン転写できる露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置は、投影光学系PLと基板Pとの間の少なくとも一部を液体50で満たすとともに、投影光学系PLを介してパターンの像を基板P上に投影して、基板Pを露光する。基板Pを移動するときに液体50と接触する部分である光学素子60及び鏡筒PKには、液体50との親和性を調整する表面処理が施されている。投影光学系と基板の間の液体に気泡が生ずることが防止され、また、投影光学系と基板の間に液体が常に維持されるので、良好な液浸状態が形成される。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する露光装置であって: 前記パターンの像を基板に投影する投影光学系を備え; 前記投影光学系の前記液体と接触する部分は、液体との親和性を調整するために表面処理されている露光装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
Fターム (6件)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
審査官引用 (13件)
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