第VIII族および第VIB族金属を含み、酢酸およびC1-C4ジアルキルスクシナートを有する、水素化処理において使用可能な触媒および調製

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：岸本瑛之助 , 渡邉彰 , 松村直都
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-543861
公開番号（公開出願番号）：特表2013-514169
出願日： 2010年12月08日
公開日（公表日）： 2013年04月25日
要約：

本発明は、水素化処理方法において用いられ得る触媒であって、アルミナをベースとする無定形担体と、リンと、C1-C4ジアルキルスクシナートと、酢酸と、第VIII族の少なくとも1種の元素および第VIB族の少なくとも1種の元素を含み、好ましくは、コバルトおよびモリブデンからなる水素化脱水素基とを含み、触媒のラマンスペクトルは、ケギンヘテロポリアニオン(974および/または990cm-1)、およびC1-C4ジアルキルスクシナート、および酢酸(896cm-1)の特徴である最も強いバンドを含む、触媒に関する。好ましくは、用いられるジアルキルスクシナートは、ジメチルスクシナートであり、その主要バンドは853cm-1である。本発明はまた、前記触媒を調製する方法であって、触媒前駆体は、第VIB族および第VIII族の元素、特に、モリブデン-コバルトの対と、リンとを含み、これらは含浸によって導入され、次いで、180°C未満温度で乾燥させられ、ジアルキルスクシナート、酢酸およびリン化合物(このものがすでに事前に完全には導入されなかった場合)を含浸させられ、次いで、成熟の後、180°Cより低い温度に乾燥させられ、その後、場合によっては硫化される、方法に関する。本発明はさらに、任意の水素化処理方法における前記触媒の使用に関する。

請求項（抜粋）：

アルミナをベースとする無定形担体と、リンと、少なくとも1種のC1-C4ジアルキルスクシナートと、酢酸と、少なくとも1種の第VIII族元素および少なくとも1種の第VIB族元素を含む水素化脱水素基とを含む触媒であって、ラマンスペクトルが、少なくとも1種のケギンヘテロポリアニオンの特徴である990および/または974cm-1におけるバンドと、前記スクシナートの特徴であるバンドと、酢酸の特徴である896cm-1における主要バンドとを含む、触媒。

IPC (6件)：

B01J 31/34 , B01J 37/02 , C10G 45/08 , C10G 45/50 , C07C 13/18 , C07C 5/10

FI (7件)：

B01J31/34 Z , B01J37/02 101Z , B01J37/02 101C , C10G45/08 Z , C10G45/50 , C07C13/18 , C07C5/10

Fターム (79件)：

4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169AA09 , 4G169BA01A , 4G169BA01B , 4G169BA03A , 4G169BA03B , 4G169BA21A , 4G169BA21B , 4G169BA22B , 4G169BC24A , 4G169BC57A , 4G169BC59A , 4G169BC59B , 4G169BC60A , 4G169BC65A , 4G169BC67A , 4G169BC67B , 4G169BC68A , 4G169BC68B , 4G169BC69A , 4G169BD03A , 4G169BD07A , 4G169BD07B , 4G169BD15A , 4G169BE07A , 4G169BE07B , 4G169BE08A , 4G169BE08B , 4G169CB02 , 4G169CC02 , 4G169CC04 , 4G169EC22X , 4G169EC22Y , 4G169EC27 , 4G169FA01 , 4G169FB04 , 4G169FB14 , 4G169FB18 , 4G169FB19 , 4G169FB29 , 4G169FB30 , 4G169FB31 , 4G169FB43 , 4G169FB50 , 4G169FB67 , 4G169FC07 , 4G169FC08 , 4G169FC10 , 4H006AA02 , 4H006AC11 , 4H006BA14 , 4H006BA20 , 4H006BA21 , 4H006BA35 , 4H006BA81 , 4H006BE20 , 4H039CA40 , 4H039CB10 , 4H129AA02 , 4H129CA07 , 4H129DA14 , 4H129DA16 , 4H129KA05 , 4H129KA07 , 4H129KB03 , 4H129KC03X , 4H129KC03Y , 4H129KD15X , 4H129KD15Y , 4H129KD24X , 4H129KD24Y , 4H129KD37Y , 4H129KD44X , 4H129KD44Y , 4H129NA02 , 4H129NA04 , 4H129NA05 , 4H129NA37

引用特許：

審査官引用 (5件)

水素化処理触媒、その製造方法、およびその使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2007-551706 出願人：トータル・フランス, アルケマフランス
水素化処理触媒を活性化する方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-530067 出願人：アルベマーレネザーランズビー.ブイ., 日本ケッチェン株式会社
水素化処理触媒の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-152571 出願人：株式会社ジャパンエナジー

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