化合物、重合体及びフォトレジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：天野一規 , 藤本勝誠 , 池田義典 , 小川博生 , 加藤早苗 , 石田耕治 , 森田慶子 , 各務幸樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-215754
公開番号（公開出願番号）：特開2013-075964
出願日： 2011年09月29日
公開日（公表日）： 2013年04月25日
要約：

【課題】液浸露光プロセスにおいて、露光時にはレジスト膜表面の優れた水切れ性を示すと共に、現像欠陥の発生を抑制できる新規な化合物、この化合物に由来する構造単位を有する重合体、この重合体を含有するフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される化合物に由来する構造単位を有する重合体、さらに、[A]酸解離性基を有する重合体、[B]当該重合体、[C]酸発生体及び[D]溶媒を含有するフォトレジスト組成物。式(1)中、R4及びR5は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。但し、R4及びR5のうち少なくとも1つの基は、フッ素原子を有する。nは、1〜4の整数である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される化合物。

IPC (3件)：

C08F 24/00 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (3件)：

C08F24/00 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (40件)：

2H125AF17P , 2H125AF36P , 2H125AH12 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH24 , 2H125AH25 , 2H125AH29 , 2H125AJ12Y , 2H125AJ14X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ74X , 2H125AL03 , 2H125AL11 , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AQ01P , 4J100BA03P , 4J100BA11P , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BB12Q , 4J100BB18P , 4J100BC03R , 4J100BC15P , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

特表平6-505022
選択的スピロ環式グルココルチコイド受容体調節物質
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-513140 出願人：メルクエンドカムパニーインコーポレーテッド
特開昭54-084564

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