特許
J-GLOBAL ID：200903084398650233

感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
和田 健二

和田 健二 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-226389
公開番号（公開出願番号）：特開2006-047533
出願日： 2004年08月03日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、PEB温度依存性が小さく、良好なプロファイルを示し、パターン倒れが発生し難い感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物、活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物及び活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表されるスルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/004 ,  C07C 309/73 ,  C07C 311/15 ,  C07C 317/14 ,  C07C 317/22 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F7/004 503A ,  C07C309/73 ,  C07C311/15 ,  C07C317/14 ,  C07C317/22 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (23件)：
2H025AA03 ,  2H025AA11 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CA48 ,  2H025CB41 ,  2H025FA12 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H006TA01 ,  4H006TA02 ,  4H006TB13 ,  4H006TC09 ,  4H006TC11
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • ポジ型感光性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-212946   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • ポジ型感光性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-343029   出願人：富士写真フイルム株式会社
審査官引用 (11件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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