感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-073178
公開番号（公開出願番号）：特開2006-258925
出願日： 2005年03月15日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：

【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、パターンプロファイル、ラインエッジラフネスに優れ、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表される有機酸を発生する発生する2種類の化合物を含有する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表される有機酸を発生する化合物及び活性光線又は放射線の照射により下記(II)で表される有機酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F7/004 503A , H01L21/30 502R

Fターム (16件)：

2H025AA01 , 2H025AA03 , 2H025AB03 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025AD05 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CA48 , 2H025CB42 , 2H025CC17

引用特許：

出願人引用 (5件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-321128 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-343029 出願人：富士写真フイルム株式会社
フルオロカーボンアニオンを有するエネルギー活性塩
公報種別：公表公報出願番号：特願平8-526859 出願人：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー

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