特許
J-GLOBAL ID:201303095428881884

光学積層体及び光学積層体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 大中 実 ,  大内 信雄 ,  鈴木 活人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-032309
公開番号(公開出願番号):特開2013-167835
出願日: 2012年02月17日
公開日(公表日): 2013年08月29日
要約:
【課題】 より複雑なパターンを設定できるパターニング偏光子層を有する光学積層体を提供する。【解決手段】 本発明の光学積層体1Aは、単体透過率が異なる少なくとも2つの偏光領域31A,32Aを有するパターニング偏光子層3Aと、基材2Aと、を有する。前記2つの偏光領域31A,32Aは、その厚みが異なる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
単体透過率が異なる少なくとも2つの偏光領域を有するパターニング偏光子層と、基材と、を有する、光学積層体。
IPC (1件):
G02B 5/30
FI (1件):
G02B5/30
Fターム (8件):
2H149AA20 ,  2H149AA28 ,  2H149AB21 ,  2H149BA01 ,  2H149BA02 ,  2H149BA12 ,  2H149BB05 ,  2H149FA21W
引用特許:
審査官引用 (4件)
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