特許

J-GLOBAL ID：201303095849579389

中性子発生装置

発明者： 久利 修平 ,  松下 出 ,  堀池 寛 ,  帆足 英二 ,  村田 勲 ,  鈴木 幸子 ,  加藤 逸郎
出願人/特許権者： 三菱重工メカトロシステムズ株式会社 ,  国立大学法人大阪大学
代理人 (2件)： 酒井 宏明 ,  高村 順
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-118986
公開番号（公開出願番号）：特開2013-246006
出願日： 2012年05月24日
公開日（公表日）： 2013年12月09日
要約：

【課題】反応槽とビームダクトとの間のコンダクタンスを小さくして真空度を設定しやすくすること。【解決手段】この中性子発生装置100は、液体金属ターゲットTに陽子ビームBを照射して核反応が生じる反応槽2と、反応槽2に接続されたビームダクト3と、ビームダクト3と反応槽2との間に設けられ且つ陽子ビームBが通過する入射孔8を形成したオリフィス板7と、ビームダクト3と反応槽2とに接続した真空ポンプ5,6とを備えている。加速器から輸送された陽子ビームBをビームダクト3の周囲に設けた電磁石4により集束させ、前記オリフィス板7の入射孔8を通過させる。入射孔8の径は、輸送されてきた陽子ビームBの径より小さいので、反応槽2とビームダクト3との間のコンダクタンスが小さくなる。これにより、反応槽2とビームダクト3の真空度が設定しやすくなる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

陽子ビームを液体金属ターゲットに対して照射して中性子を発生させる中性子発生装置であって、 液体金属ターゲットと陽子ビームとが反応する領域を区画形成する反応槽と、 反応槽に接続され且つ陽子ビームを反応槽内に導くビームダクトと、 ビームダクトの周囲に設けた前記陽子ビームを集束させる電磁石と、 ビームダクトと反応槽との間に設けられると共に集束前の陽子ビームの径より小さな径であって且つ前記電磁石により集束した集束部が通過し得る大きさを有する入射孔を設けたオリフィス板と、 を備えたことを特徴とする中性子発生装置。

IPC (4件)：

G21K 1/093 ,  H05H 3/06 ,  G21K 5/02 ,  G21K 5/04

FI (4件)：

G21K1/093 F ,  H05H3/06 ,  G21K5/02 N ,  G21K5/04 D

Fターム (3件)：

2G085BA16 ,  2G085BD10 ,  2G085DA03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 中性子発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-054197   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• 粒子線取り出し装置及び該装置を用いたボイラ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-122041   出願人：株式会社荏原製作所
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-145941   出願人：東京エレクトロン株式会社