特許

J-GLOBAL ID：201303096964277937

耐エッチング性反射防止コーティング組成物

発明者： ジビアオ マオ ,  スザンネ コレイ ,  ティモシー・ジー・アダムス
出願人/特許権者： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
代理人 (1件)： 佐伯 憲生
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-520023
特許番号：特許第4773037号
出願日： 2001年08月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板の上に、1)反射防止組成物のコーティング層、および2)反射防止層の上にフォトレジストのコーティング層を持ち、前記反射防止組成物はa)樹脂、b)酸または熱的酸発生剤、およびc)架橋剤を含み、該樹脂が下式: (式中、Rは水素またはアルキルであり、R1、R2およびR3はおのおの独立に任意に置換したアルキルまたは任意に置換したアルコキシである)のモノマーの重合したユニットを含む、基板からなる塗布された基板。

IPC (2件)：

G03F 7/11 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 574

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 反射防止組成物及びこれを用いる感光膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-056314   出願人：三菱化学株式会社
• 反射防止膜およびレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-288131   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 反射防止組成物及びレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-070236   出願人：三菱化学株式会社
• 反射防止膜材料用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-245126   出願人：富士写真フイルム株式会社