特許
J-GLOBAL ID:201303098096289250
金属表面付着成分の濃度計測方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
村瀬 一美
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-116862
公開番号(公開出願番号):特開2013-190411
出願日: 2012年05月22日
公開日(公表日): 2013年09月26日
要約:
【課題】金属表面に付着している微量成分を感度良く測定可能とする。また、同軸照射方式のLIBSでダブルパルスで計測する場合における、レーザーエネルギーを低くしなおかつ低濃度まで精度良く計測可能とする。【解決手段】検査対象である金属表面6にパルス状のレーザー光を照射して付着物質をアブレーションし、その後アブレーションによりプラズマ化された物質からの発光を計測し、分光することにより、金属表面に付着する微量成分の特定と濃度を求める金属表面付着成分の濃度計測方法において、1mJ以上100mJ以下のレーザーエネルギーの第1のレーザー光11と15mJ以上100mJ以下のレーザーエネルギーの第2のレーザー光12とを同軸照射によりターゲット6の表面に順次照射するようにしている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
1mJ以上100mJ以下のレーザーエネルギーの第1のレーザー光と15mJ以上100mJ以下のレーザーエネルギーの第2のレーザー光とを同軸照射によりターゲットの表面に順次照射し、金属表面付着成分をアブレーションし、プラズマ化された物質からの発光スペクトルを計測し、前記金属表面に付着する微量成分の特定と濃度を求める金属表面付着成分の濃度計測方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (24件):
2G043AA01
, 2G043BA06
, 2G043CA02
, 2G043EA10
, 2G043FA06
, 2G043GA02
, 2G043GA07
, 2G043GB01
, 2G043GB21
, 2G043HA01
, 2G043HA05
, 2G043HA07
, 2G043HA09
, 2G043JA03
, 2G043JA04
, 2G043KA01
, 2G043KA02
, 2G043KA08
, 2G043KA09
, 2G043LA02
, 2G043LA03
, 2G043MA01
, 2G043NA02
, 2G043NA11
引用特許:
審査官引用 (7件)
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元素分析装置および元素分析方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-100267
出願人:株式会社東芝, 東芝電子管デバイス株式会社
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元素分析装置および元素分析方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-198343
出願人:株式会社東芝, 東芝電子管デバイス株式会社
-
物質分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-190351
出願人:イマジニアリング株式会社
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引用文献:
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