特許
J-GLOBAL ID:201303099420134724

ヘテロポリ酸を含む飽和および不飽和アルデヒド類の不飽和カルボン酸への酸化のための触媒、その製造方法および使用方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-515591
公開番号(公開出願番号):特表2013-534469
出願日: 2011年07月12日
公開日(公表日): 2013年09月05日
要約:
本発明は、ヘテロポリ酸化合物触媒組成物、触媒組成物の製造方法および触媒組成物を用いた飽和および/または不飽和アルデヒド類の不飽和カルボン酸類への酸化のためのプロセスである。触媒組成物は、モリブデン、バナジウム、リン、セシウム、ビスマス、銅、およびアンチモンを含むヘテロポリ酸化合物である。熱的安定性はより高いセシウム量(3.0未満まで)で達成されるが、良好な活性を維持するためには、アンチモン、銅およびビスマスが存在しなければならない。触媒は、ヘテロポリ酸化合物のそれぞれの成分の化合物を溶液に溶解し、ヘテロポリ酸化合物を沈殿させ、触媒前駆体を得、触媒前駆体をか焼し、ヘテロポリ酸化合物触媒を形成することにより製造される。不飽和アルデヒド類、例えばメタクロレインを、ヘテロポリ酸化合物触媒の存在下で酸化させ、不飽和カルボン酸、例えばメタクリル酸を生成させることができる。【選択図】図6B
請求項(抜粋):
一般式:Mo12VaPbCscBidCueSbfOxのヘテロポリ酸化合物を含む触媒であって、式中、Moはモリブデンであり、Vはバナジウムであり、Pはリンであり、Csはセシウムであり、Biはビスマスであり、Cuは銅であり、Sbはアンチモンであり、Oは酸素であり、aは0.01から5.0であり、bは0.5から3.5であり、cは1.5から2.75であり、dは0.05から0.5であり、eは0.05から0.5であり、fは0.1から0.5であり、xは原子価を満たす、触媒。
IPC (6件):
B01J 27/199 ,  B01J 37/04 ,  B01J 37/03 ,  B01J 37/08 ,  C07C 51/235 ,  C07C 57/055
FI (6件):
B01J27/199 Z ,  B01J37/04 102 ,  B01J37/03 Z ,  B01J37/08 ,  C07C51/235 ,  C07C57/055 B
Fターム (85件):
4G169AA02 ,  4G169AA08 ,  4G169BB04C ,  4G169BB07A ,  4G169BB07B ,  4G169BB08C ,  4G169BB12C ,  4G169BB14C ,  4G169BB20C ,  4G169BC06A ,  4G169BC06B ,  4G169BC10A ,  4G169BC13A ,  4G169BC16A ,  4G169BC17A ,  4G169BC18A ,  4G169BC21A ,  4G169BC22A ,  4G169BC23A ,  4G169BC25A ,  4G169BC25B ,  4G169BC26A ,  4G169BC26B ,  4G169BC27A ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169BC32A ,  4G169BC35A ,  4G169BC42A ,  4G169BC43A ,  4G169BC50A ,  4G169BC51A ,  4G169BC54A ,  4G169BC54B ,  4G169BC55A ,  4G169BC56A ,  4G169BC58A ,  4G169BC59A ,  4G169BC59B ,  4G169BC60A ,  4G169BC62A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BD01C ,  4G169BD02C ,  4G169BD03A ,  4G169BD03B ,  4G169BD04C ,  4G169BD05A ,  4G169BD06C ,  4G169BD07A ,  4G169BD07B ,  4G169BD12C ,  4G169CB07 ,  4G169CB17 ,  4G169CB74 ,  4G169DA06 ,  4G169DA07 ,  4G169DA08 ,  4G169EC25 ,  4G169FA01 ,  4G169FB04 ,  4G169FB08 ,  4G169FB30 ,  4G169FB57 ,  4G169FB78 ,  4G169FC02 ,  4G169FC04 ,  4G169FC07 ,  4G169FC08 ,  4H006AA02 ,  4H006AC46 ,  4H006BA02 ,  4H006BA05 ,  4H006BA12 ,  4H006BA13 ,  4H006BA14 ,  4H006BA30 ,  4H006BA31 ,  4H006BA35 ,  4H006BE30 ,  4H006BS10 ,  4H039CA65 ,  4H039CC30
引用特許:
審査官引用 (7件)
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