特許
J-GLOBAL ID:200903095190354349

混合アルデヒド供給原料のメタクリル酸への酸化のための触媒およびその製造方法と使用方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 柳田 征史 ,  佐久間 剛 ,  河野 香 ,  樋口 洋
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-524058
公開番号(公開出願番号):特表2009-502927
出願日: 2006年07月25日
公開日(公表日): 2009年01月29日
要約:
イソブチルアルデヒド、メタクロレインもしくはそれらの混合物または組合せのメタクリル酸への酸化のためのヘテロポリ酸触媒であって、少なくともモリブデン(Mo)と、リン(P)と、バナジウム(V)と、ビスマス(Bi)および/またはホウ素(B)を含む第1の成分とを含むヘテロポリ酸触媒が開示されている。このヘテロポリ酸触媒は必要に応じて、カリウム(K)、ルビジウム(Rb)、セシウム(Cs)および/またはタリウム(Tl)を含む第2の成分と、必要に応じて、アンチモン(Sb)、セリウム(Ce)、ニオブ(Nb)、インジウム(In)、鉄(Fe)、クロム(Cr)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、マンガン(Mn)、ヒ素(As)、銀(Ag)、亜鉛(Zn)、ゲルマニウム(Ge)、ガリウム(Ga)、ジルコニウム(Zr)、マグネシウム(Mg)、バリウム(Ba)、鉛(Pb)、スズ(Sn)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、ケイ素(Si)、タンタル(Ta)、タングステン(W)および/またはランタン(La)を含む第3の成分とを含んでも差し支えない。このヘテロポリ酸触媒は、最終的なヘテロポリ酸触媒中の中くらいの気孔の値を増加させるように設計されたアンモニウム含有化合物を含むこともできる。このヘテロポリ酸触媒を使用してイソブタナールをメタクリル酸に酸化する方法も開示されている。
請求項(抜粋):
少なくともモリブデン(Mo)と、リン(P)と、バナジウム(V)と、ビスマス(Bi)、ホウ素(B)およびそれらの混合物または組合せからなる群より選択される第1の成分とを含むヘテロポリ酸触媒の存在下でアルデヒド供給原料および酸化剤を接触させて、メタクリル酸を形成する工程を有してなる方法。
IPC (7件):
C07C 51/235 ,  B01J 27/199 ,  B01J 35/10 ,  B01J 37/04 ,  B01J 37/08 ,  C07C 57/055 ,  C07C 57/05
FI (7件):
C07C51/235 ,  B01J27/199 Z ,  B01J35/10 301G ,  B01J37/04 102 ,  B01J37/08 ,  C07C57/055 B ,  C07C57/05
Fターム (106件):
4G169AA02 ,  4G169AA03 ,  4G169AA12 ,  4G169BA21A ,  4G169BA21C ,  4G169BB01A ,  4G169BB01B ,  4G169BB01C ,  4G169BB05B ,  4G169BB05C ,  4G169BB07A ,  4G169BB07B ,  4G169BB12A ,  4G169BB12C ,  4G169BB16A ,  4G169BB16C ,  4G169BC03A ,  4G169BC05A ,  4G169BC06A ,  4G169BC06B ,  4G169BC10A ,  4G169BC13A ,  4G169BC16A ,  4G169BC17A ,  4G169BC18A ,  4G169BC19A ,  4G169BC21A ,  4G169BC22A ,  4G169BC23A ,  4G169BC25A ,  4G169BC25B ,  4G169BC26A ,  4G169BC26B ,  4G169BC27A ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169BC32A ,  4G169BC35A ,  4G169BC42A ,  4G169BC43A ,  4G169BC50A ,  4G169BC51A ,  4G169BC54A ,  4G169BC54B ,  4G169BC55A ,  4G169BC56A ,  4G169BC58A ,  4G169BC59A ,  4G169BC59B ,  4G169BC60A ,  4G169BC66A ,  4G169BD01A ,  4G169BD01B ,  4G169BD01C ,  4G169BD03A ,  4G169BD03B ,  4G169BD05A ,  4G169BD06A ,  4G169BD06B ,  4G169BD06C ,  4G169BD07A ,  4G169BD07B ,  4G169BD12A ,  4G169BD12C ,  4G169BD13A ,  4G169BD13C ,  4G169BE08A ,  4G169BE08C ,  4G169CB07 ,  4G169CB17 ,  4G169DA06 ,  4G169EC18X ,  4G169FC04 ,  4H006AA02 ,  4H006AC12 ,  4H006AC46 ,  4H006BA02 ,  4H006BA04 ,  4H006BA05 ,  4H006BA06 ,  4H006BA07 ,  4H006BA09 ,  4H006BA10 ,  4H006BA11 ,  4H006BA12 ,  4H006BA13 ,  4H006BA14 ,  4H006BA16 ,  4H006BA18 ,  4H006BA30 ,  4H006BA31 ,  4H006BA33 ,  4H006BA35 ,  4H006BA60 ,  4H006BA75 ,  4H006BA81 ,  4H006BA85 ,  4H006BC13 ,  4H006BC31 ,  4H006BC32 ,  4H006BC37 ,  4H006BS10 ,  4H039CA21 ,  4H039CA65 ,  4H039CC10 ,  4H039CC30
引用特許:
出願人引用 (5件)
  • 米国特許第4558028号明細書
  • 欧州特許第1060792号明細書
  • 中華人民共和国特許出願公開第1047985A号明細書
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審査官引用 (30件)
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