文献

J-GLOBAL ID：201402203033580258   整理番号：14A1019362

電子注入によって誘起されるKTa_1-xNb_xO₃結晶の非線形誘電応答に関係する誘電率の変化

Changes in permittivity of KTa_1-xNb_xO₃ crystals induced by electron injection in relation to nonlinear dielectric response

著者 (5件)： IMAI Tadayuki (Nippon Telegraph and Telephone Corp., Kanagawa, JPN) ,  TOYODA Seiji (Nippon Telegraph and Telephone Corp., Kanagawa, JPN) ,  MIYAZU Jun (Nippon Telegraph and Telephone Corp., Kanagawa, JPN) ,  KOBAYASHI Junya (Nippon Telegraph and Telephone Corp., Kanagawa, JPN) ,  KOJIMA Seiji (Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 7  号： 7  ページ： 071501.1-071501.3  発行年： 2014年07月 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： KTa_1-xNb_xO₃(KTN)から成る光ビームディフレクタの電子注入によって誘起される静電容量の大幅な増大を観測した。この増大は,電極界面の変化ではなく,バルク結晶の誘電率の変化によって誘起される。常誘電相のKTN結晶は,D-E曲線に2重のヒステリシスループを持つ非線形誘電応答を示すことが分かった。誘電率の変化は,この非線形現象に帰着する。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 静電容量 ,  *タンタル酸塩 ,  カリウム化合物 ,  ニオブ化合物 ,  *光偏向 ,  *誘電率 ,  ヒステリシス ,  *非線形性 ,  *応答 ,  曲線 ,  *キャリア注入
準シソーラス用語： *誘電応答 ,  分極曲線 ,  電子注入

分類 (1件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

引用文献 (13件)：

• J. E. Geusic, S. K. Kurtz, L. G. Van Uitert, and S. H. Wemple, Appl. Phys. Left. 4, 141 (1964).
• T. Imai, M. Sasaura, K. Nakamura, and K. Fujiura, NTT Tech. Rev. 5, 1 (2007).
• K. Nakamura, J. Miyazu, Y. Sasaki, T. Imai, M. Sasaura, and K. Fujiura, J. Appl. Phys. 104, 013105 (2008).
• S. Yagi, K. Naganuma, T. Imai, Y. Shibata, J. Miyazu, M. Ueno, Y. Okabe, Y. Sasaki, K. Fujiura, M. Sasaura, K. Kato, M. Ohmi, and M. Haruna, Proc. SPIE 8213, 821333 (2012).
• Y. Okabe, Y. Sasaki, M. Ueno, T. Sakamoto, S. Toyoda, J. Kobayashi, and M. Ohmi, Opt. Photonics J. 3, 190 (2013).

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子注入 ,  誘起 ,  結晶 ,  非線形 ,  誘電応答 ,  誘電率