文献

J-GLOBAL ID：201402232811661066   整理番号：14A1231791

磁気MEMSの開発現状 小型デバイス応用を目指した厚膜磁石の開発

Development of Thick-Film Magnets Applied to Miniaturized Devices

著者 (5件)： 中野正基 (長崎大 大学院工学研究科) ,  柳井武志 (長崎大 大学院工学研究科) ,  藤井泰久 (KRI) ,  松本信子 (KRI) ,  福永博俊 (長崎大 大学院工学研究科)
資料名： まぐね  (Magnetics Japan)
巻： 9  号： 5  ページ： 211-216  発行年： 2014年10月01日 
JST資料番号： L5842A  ISSN： 1880-7208  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： MEMS(microelectrical mechanical systems)への応用を念頭に,PLD(Pulsed Laser Deposition)の方法を用いて等方性厚膜Nd-Fe-B磁石の製法の開発を行った。レーザビームの集光度合のパラメータとしてデフォーカス率を定義して用いた。この率を0.3程度,あるいはそれ以上にすることで,ターゲット組成とほぼ同じ組成の粒子を短時間に基板上に数多く堆積させ,比較的高速な成膜速度で,再現性よく等方性の膜を得ることができることがわかった。また基板上に成膜した厚膜磁石のデバイス応用について述べ,さらにSi基板上に成膜した厚膜磁石とその加工について言及した。

シソーラス用語： *永久磁石 ,  *厚膜 ,  *MEMS ,  スパッタリング ,  レーザビーム ,  集光 ,  マイクロモータ ,  ネオジム含有合金 ,  鉄合金 ,  ホウ素含有合金
準シソーラス用語： *ネオジム永久磁石

分類 (1件)： 電磁石  (NA05080G)

引用文献 (38件)：

• H. Sepehri-Amin, Y. Une, T. hkubo, K. Hono, and M. Sagawa: Scripta Mater., 65, 396 (2011).
• T.Shima, K. Sato, Y. Mishina, T. Ohtsuki, and H. Iwama: J. Japan Inst. Met. Mater., 76, 52 (2012).
• M. Natsuura, R. Goto, N. Tezuka, and S. Sugimoto: Mater. Trans., 51, 1901 (2010).
• S. Yamashita, J. Yamasaki, M. Ikeda, and N. Iwabuchi: J. Magn. Soc. Jpn., 15, 241 (1991).
• S. Yamashita, J.Yamasaki, M. Ikeda, and N. Iwabucji: J. Appl. Phys., 70, 6627 (1991).

タイトルに関連する用語 (6件)： 磁気 ,  MEMS ,  開発 ,  現状 ,  応用 ,  厚膜磁石