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J-GLOBAL ID：201402238696150573   整理番号：14A0844291

過酸化水素含有ミストを用いたVOCガス分解処理プロセスの開発

Development of Degradation Treatment Process for VOC Gases Using Mist Containing Hydrogen Peroxide

著者 (9件)： 並木孝招 (埼玉大学大学院理工学研究科) ,  関口和彦 (埼玉大学大学院理工学研究科) ,  王青躍 (埼玉大学大学院理工学研究科) ,  並木則和 (工学院大学工学部) ,  東賢一 (近畿大学医学部) ,  田村一 (株式会社テクノ菱和) ,  諏訪好英 (芝浦工業大学工学部) ,  鍵直樹 (東京工業大学大学院情報理工学研究科) ,  藤井修二 (東京工業大学大学院情報理工学研究科)
資料名： エアロゾル研究  (Journal of Aerosol Research)
巻： 29  号： 2  ページ： 112-118 (J-STAGE)  発行年： 2014年 
JST資料番号： L0641A  ISSN： 0912-2834  CODEN： EAKEEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： H₂O₂存在下において,揮発性有機化合物(VOC)ガスは超音波ミストの表面または内部でH₂O₂由来のOHラジカルとの反応または吸着で完全に除去された。ミストと波長254nmのUV照射を組み合わせた条件でトルエンガスの除去はH₂O₂で加速された。さらに,水でのミストの条件で,連続的にH₂O₂を生成するために200kHzの超音波を照射する場合には,UV照射の有無に関わらず十分に除去できたので,この超音波処理がH₂O₂を含む反応性キャビティを形成することでトルエンと直接に反応することが示された。

シソーラス用語： 過酸化水素 ,  *揮発性有機化合物 ,  紫外線照射 ,  噴霧 ,  超音波 ,  *酸化 ,  ミスト ,  ヒドロキシルラジカル ,  アルキルベンゼン ,  *AOP【酸化法】
準シソーラス用語： *高次酸化処理 ,  超音波噴霧

分類 (2件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  酸化,還元  (CF02060T)

物質索引 (1件)： トルエン

引用文献 (24件)：

• 1) Repace, J. L.: Indoor Air Pollution, Environ. Int., 8, 21-36 (1982)
• 2) Hodgson, M., Levin, H. and Wolkoff, P.: Volatile Organic Compounds in Indoor Air, J. Allergy Clin. Immun., 94, 296-303 (1994)
• 3) Benoit-Marquie, F., Wilkenhöner, U., Simon, V., Braun, A. M., Oliveros, E. and Maurette, M. T.: VOC Photodegradation at the Gas-Solid Interface of a TiO₂ Photocatalyst Part I: 1-Butanol and 1-Butylamine, J. Photochem. Photobiol. A: Chem., 132, 225-232 (2000)
• 4) Mo, J., Zhang, Y., Xu, Q., Zhu, Y., Lamson, J. J. and Zhao, R.: Determination and Risk Assessment of by-Products Resulting from Photocatalytic Oxidation of Toluene, Appl. Catal. B: Environ., 89, 570-576 (2009)
• 5) Schmitt, F. O., Jonhnson, C. H. and Olson, A. R.: Oxidations Promoted by Ultrasonic Radiation, J. Amer. Chem. Soc., 51, 370-375 (1929)

タイトルに関連する用語 (6件)： 過酸化水素 ,  ミスト ,  VOC ,  分解処理 ,  プロセス ,  開発