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J-GLOBAL ID：201402245064702763   整理番号：14A0425981

溶液プラズマプロセスによるグラフェン誘導体に対する溶媒親和性の改善

Improvement of solvent affinity for graphene derivatives by solution plasma process

著者 (7件)： UCHINO Seiko (Saga Univ., Saga, JPN) ,  SAKAGUCHI Koichi (Saga Univ., Saga, JPN) ,  OHTAKE Asami (Saga Univ., Saga, JPN) ,  TAKISAWA Noboru (Saga Univ., Saga, JPN) ,  NAKASHIMA Tatsurou (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Saga, JPN) ,  ERA Masanao (Saga Univ., Saga, JPN) ,  MATSUDA Naoki (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Saga, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 53  号： 1S  ページ： 01AD05.1-01AD05.4  発行年： 2014年01月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 溶液プラズマ(SP)プロセスを使って親水性のグラフェン誘導体を作製した。9%の過酸化水素(H₂O₂)水溶液内にグラファイトを含む試料溶液に対する実験パラメータとして5分,10分,15分の3つの異なるSP処理時間を適用した。得られたグラフェン誘導体は,元のグラファイトに比べて高い分散性を示した。得られた試料の平均粒子サイズとゼータ電位の絶対値は,SP処理時間の増加とともに減少した。脱離液内のSP処理したグラフェン誘導体の粒子サイズは,SP処理時間に依存して線形に減少した。希望する1.6~2.5μmの粒子サイズがSP処理によって得られた(すなわち,反応の制御ができた)。SPプロセスを用いたグラフェン処理に対して必要な反応時間は,改良Hummers法よりもかなり短くて済む。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： プラズマ処理 ,  *炭素材 ,  *親和性 ,  親水性 ,  分散【dispersion】 ,  ζ電位 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： 溶液プラズマプロセシング

分類 (1件)： 試料技術  (BA02070O)

引用文献 (23件)：

• C. Lee, X. Wei, J. W. Kysar, and J. Hone, Science 321, 385 (2008).
• A. K. Geim and K. S. Novoselov, Nat. Mater. 6, 183 (2007).
• K. I. Bolotin, K. J. Sikes, Z. Jiang, M. Klima, G. Fudenberg, J. Hone, P. Kim, and H. L. Stormer, Solid State Commun. 146, 351 (2008).
• M. B. Prince, Phys. Rev. 93, 1204 (1954).
• V. Singh, D. Joung, L. Zhai, S. Das, S. I. Khondaker, and S. Seal, Prog. Mater. Sci. 56, 1178 (2011).

タイトルに関連する用語 (6件)： 溶液プラズマ ,  プロセス ,  グラフェン ,  誘導体 ,  溶媒 ,  親和性