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J-GLOBAL ID：201402258541701736   整理番号：14A0381552

DNA検出のためのナノポア集積ナノギャップ

Nanopore Integrated Nanogaps for DNA Detection

著者 (8件)： FANGET Axel (EPFL, Lausanne, CHE) ,  TRAVERSI Floriano (EPFL, Lausanne, CHE) ,  KHLYBOV Sergey (EPFL, Lausanne, CHE) ,  GRANJON Pierre (EPFL, Lausanne, CHE) ,  GRANJON Pierre (Grenoble Inst. of Technol., Grenoble, FRA) ,  MAGREZ Arnaud (EPFL, Lausanne, CHE) ,  FORRO Laszlo (EPFL, Lausanne, CHE) ,  RADENOVIC Aleksandra (EPFL, Lausanne, CHE)
資料名： Nano Letters  (Nano Letters)
巻： 14  号： 1  ページ： 244-249  発行年： 2014年01月 
JST資料番号： W1332A  ISSN： 1530-6984  CODEN： NALEFD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノポア固体膜を結合したサブ10nmの金属ナノギャップ電極の迅速で容易な作製法を示した。この素子によりギャップとポアを通過するDNAを検出できるに違いない。SiO₂/Si基板上にLPCVDにより窒化シリコン膜,そしてTi/Pt膜を製膜した。電子ビームリソグラフィとリフトオフによりサブ10nmギャップを作製し,次に基板裏側からSiをウェットエッチしてギャップを見込む窓形のSi₃N₄膜を残し,電界放出TEMを用いて窓膜のギャプ部にナノポアを開孔した。これらのプロセス示し,最適化する線量,レジスト厚,ギャップ形を示した。作製した素子のイオン電流雑音と電流電圧特性を評価した。

シソーラス用語： *集積 ,  *細孔 ,  *間隙 ,  窒化ケイ素 ,  チタン含有合金 ,  白金合金 ,  過程 ,  LPCVD ,  電子ビームリソグラフィー ,  微細加工 ,  エッチング ,  プロセスパラメータ ,  雑音 ,  *DNA【核酸】 ,  *検出 ,  薄膜 ,  ウェットエッチング
準シソーラス用語： SiO₂/Si ,  イオン電流雑音 ,  デバイスプロセス ,  *ナノギャップ ,  *ナノポア ,  リフトオフ

分類 (2件)： 核酸一般  (EB04010U) ,  分析機器  (CC02020S)

タイトルに関連する用語 (4件)： DNA ,  ナノポア ,  集積 ,  ナノギャップ